Blanco de sputtering de capa de la farfulla
Información básica.
Alta calidad farfulla target1: nuestro blanco de sputtering:Descripción del producto
| Materiales | Tipo | Producto | Forma |
| cerámica | Si | siliconsputteringtarget | rotarable |
| NbOx | NiobiumOxidesputteringtarget | rotarable | |
| TiOx | TitaniumOxidesputteringtarget | rotarable | |
| AZO | Aluminadopedzincoxidesputteringtarget | rotarable/planar | |
| ITO | IndiumTinOxidesputteringtarget | rotarable | |
| metal | Mo | Molybdenumsputteringtarget | rotarable/planar |
| CR | CrRotarySputteringtarget | rotarable | |
| SN | Stannumsputterigtarget | rotarable | |
| aleación de | SiAl | SiAlsputteringtarget | rotarable |
| NiCr | Nicklechromiumsputteringtarget | rotarable/planar | |
| ZnSn | ZincStannumsputteringtarget | rotarable | |
| ZnAl | ZincAluminumsputteringtarget | rotarable | |
| CuInGa | CuInGasputteringtarget | rotarable |
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2. por qué nosotros:
* Alta pureza
* Composición uniforme
* Menor grano
* Alta densidad
* Baja resistividad
3: Diagrama de flujo de trabajo de producción
4:
Según clientes y #39; solicitud.
Derecho de propiedad inteligente 5:Independent
Hemos obtenido 11 independiente intelligrnt los derechos de propiedad sobre la farfulla objetivos y plasma equipos de pulverización.